题目

图甲中bacd为导体作成的框架，其平面与水平面成θ角。质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好，回路的总电阻为R，整个装置放于垂直于框架平面的变化的磁场中，磁感应强度的变化如图乙所示。已知PQ始终静止，则在0~t0s内，PQ受到的摩擦力f的变化情况可能是A．f一直增大  B．f一直减小C．f先减小后增大D．f先增大后减小在反应8NH3 + 3Cl2=6NH4Cl+N2中，氧化剂和还原剂的物质的量之比为A. 1:6 B. 3:8 C. 2:3 D. 3:2