题目

工业上可用粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3，：Si+3HCl=SiHCl3+H2，SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅。 有关物质的物理常数见下表： 物质SiCl4BCl3AlCl3FeCl3SiHCl3PCl5 沸点/℃57.712.8—31533.0— 熔点/℃-70.0-107.2——-126.5— 升华温度/℃——180300 162 （1）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4，提纯SiHCl3可采用            的方法 （2）实验室也可用SiHCl3与过量干燥的H2反应制取纯硅，装置如下图所示（按规律填数或画图。（1）70     65     60  （   ）  （   ）（2）□   △   ☆   □   △   ☆   □  （   ） （   ）（3）4   7   10   13  （   ） （  ）