题目

如图, ，且，若，（其中），则终点落在阴影部分（含边界）时，的取值范围是                   .     答案： 甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域，三氯氢硅（SiHCl3）是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题：(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有：Si(s)＋4HCl(g)= SiCl4(g)＋2H2(g) H＝-241kJ/molSiHCl3(g)＋HCl(g)=SiCl4(g)＋H2(g) H＝-31kJ/mol以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是____________________________。(2)工业上可用四氯化硅和氢化铝锂（LiAlH4）制甲硅烷，反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为_________________。(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g) SiH2Cl2(g)＋SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤，此反应采用一定量的PA100催化剂，在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。①353.15K时，平衡转化率为_________，反应的平衡常数K＝________（保留3位小数）。该反应是________反应（填“放热”“吸热”）。②323.15K时，要缩短反应达到平衡的时间，可采取的措施有_________、__________。③比较a、b处反应速率的大小：va_____vb （填“＞”“＜”或“＝”）。已知反应速率v正＝，v逆＝，k1、k2分别是正、逆反应的速率常数，与反应温度有关，x为物质的量分数，则在353.15K时＝________（保留3位小数）。